Nell’ambito dell’implantologia moderna, differenti trattamenti richiedono differenti approcci clinici: ogni professionista attento sa che la soluzione implanto-protesica ottimale per un certo tipo di riabilitazione può rivelarsi non adeguata per un’altra. Al tempo stesso, adottare più sistemi implantari significa rendere più complesso l’apprendimento per tutti gli operatori, oltre ad appesantire la gestione dello studio.
Geass, azienda italiana attiva nell’implantologia da oltre trent’anni, è in grado di rispondere a questa esigenza grazie a way, il sistema implantare che prevede un unico protocollo chirurgico per soluzioni diversificate da scegliere a seconda del tipo di riabilitazione:
- way Milano, con connessione conica interna e platform switching, dedicato all’estetica;
- way Extra, con spire esplose, specifico per i siti post-estrattivi;
- way Roma, transmucoso, ideale per le zone distali;
- way Venezia, ad esagono esterno, per le grandi strutture;
- way Short, per trattare i casi con altezza ossea ridotta;
- way Slim, progettato per gli spazi anatomici ristretti grazie al diametro di soli 3 mm.
Oltre ad avere in comune lo stesso protocollo e lo stesso kit, tutti gli impianti way presentano l’innovativa superficie Synthegra, il trattamento al laser brevettato da Geass che agisce su due fronti: combatte la perimplantite e al tempo stesso promuove l’osteointegrazione nel lungo termine.
L’innovazione è da sempre alla base di way, che offre numerose possibilità anche per chi si approccia al mondo del digitale: dalla presa d’impronta digitale alla chirurgia computer guidata, fino alla protesi personalizzata CAD-CAM, le soluzioni Geass costituiscono un sistema aperto, flessibile ed economico per acquisire un flusso digitale completo.
Miglioramento continuo, attenzione alle esigenze dei professionisti, affidabilità: tutto questo rende way la soluzione d’eccellenza di Geass per migliorare l’esperienza clinica e offrire soluzioni vincenti ai propri pazienti.
Ti aspettiamo a Expodental, padiglione C1 stand 188 - corsia 5.
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